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化学气相沉积CVD发展来源

化学气相沉积CVD发展来源

发布时间:2021-03-03 浏览次数:

   今天诺泰科技来给大家简单分享下化学气相沉积CVD的发展来源。

   化学气相沉积英文(Chemical Vapor Deposition)中的Vapor Deposition意为气相沉积,其意是指利用气相中发生的物理、化学过程,在固体表面形成沉积物的技术。按照机理其可以划分为三大类:物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,简称PVD),化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,简称CVD)和等离子体气相沉积(Plasma Chemical Vapor Deposition,简称PCVD)。目前CVD的应用最为广泛,其技术发展及研究也最为成熟,其广泛应用于广泛用于提纯物质、制备各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。

化学气相沉积

   下面大家来主要看下CVD和PVD之间的区别。CVD沉积过程要发生化学反应,属于气相化学生长过程,其具体是指利用气态或者蒸汽态的物质在固体表面上发生化学反应继而生成固态沉积物的工艺过程。简而言之,即通过将多种气体原料导入到反应室内,使其相互间发生化学反应生成新材料,最后沉积到基片体表面的过程。

   目前CVD技术在电子、机械等工业部门中发挥了巨大作用,特别对一些如氧化物、碳化物、金刚石和类金刚石等功能薄膜和超硬薄膜的沉积。尤其目前超纯硅原料-超纯多晶硅的生产只能通过CVD技术。

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